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고객의 꿈이 바로 당사의 희망으로 꿈을 펼칠 수 있게 발돋움 할 것을 약속드립니다. Plasma Systems

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회사연혁

  • 2013

    01 피에스케이㈜와 양산용 ICP Source Module 개발 완료 및 적용

    06 대면적 ICP-RIE System 개발 공급

  • 2012

    03 RF & DC Sputtering Source 개발 공급

    05 플라스마 발생 장치(Plasma Generation Apparatus) 특허 등록

  • 2011

    04 벤처기업인증

    06 대면적 PE(CCP)-Ashing System 개발 공급

    07 High Temperature PECVD System 개발 공급

    08 PE-RIE System (Multi Plasma System) 개발 공급

  • 2010

    01 RIE(Reactive Ion Etching) System 공급

    03 ICP-RIE System 공급

    04 주성엔지니어링㈜과 거래 개시
    피에스케이㈜와 양산용 ICP Source 공동 개발 및 거래 개시

    08 사옥 확장 (대덕테크노 밸리)

    12 ATM(상압) Plasma Surface Treatment System 개발 공급

  • 2009

    08 ALL FOR SYSTEM(올포시스템) 설립

    11 PE-Ashing System 공급

    12 Vacuum Plasma Liquid Coating & Surface Treatment System 개발 공급

연혁 표