HOME > 자료실 > 플라즈마 관련자료실
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| 번호 | 제목 | 작성자 | 등록일 | 조회 |
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Etching System 관련 자료
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관리자 | 2018.05.03 18:12 | 38 |
| 16 | 반도체 8대 공정 간략한 설명 | 관리자 | 2017.12.21 14:22 | 2898 |
| 15 |
Sputtering System 기본 자료
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관리자 | 2013.12.17 18:38 | 641 |
| 14 |
IEEE 주파수 대역 자료
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관리자 | 2013.12.17 18:33 | 615 |
| 13 |
Chamber Cleaning 자료
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관리자 | 2013.12.17 18:30 | 645 |
| 12 |
밸브 규격과 유량 계산식 자료
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관리자 | 2013.12.10 13:23 | 1249 |
| 11 |
Wet Satation 자료
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관리자 | 2013.12.10 13:22 | 659 |
| 10 |
코로나와 RF(Grow) 방전(플라즈마) 비교 자료
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관리자 | 2013.12.10 13:19 | 1747 |
| 9 |
기본적인 전기 소자 자료
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관리자 | 2013.12.10 13:18 | 617 |
| 8 |
Plasma(플라즈마) 관련 자료
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관리자 | 2013.12.10 13:15 | 879 |
| 7 |
CCP(저밀도 플라즈마)와 ICP(고밀도 플라즈마) Source 자료
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관리자 | 2013.12.10 13:11 | 9729 |
| 6 |
CVD 기본 자료
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관리자 | 2013.12.10 13:09 | 1068 |
| 5 |
Plasma 장비와 Source의 적용 자료
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관리자 | 2013.12.10 13:08 | 737 |
| 4 |
MEMS 공정 자료
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관리자 | 2013.12.10 13:07 | 689 |
| 3 |
LED 제조 공정 자료
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관리자 | 2013.12.10 13:06 | 1082 |
| 2 |
TFT-LCD 제조 공정자료
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관리자 | 2013.12.10 13:04 | 4030 |
| 1 |
반도체 칩 제조 공정 자료
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관리자 | 2013.12.10 13:03 | 824 |
