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플라즈마 관련자료실

Etching System 관련 자료

관리자 | 2018.05.03 18:12 | 조회 307

RIE System: 하부 저밀도 RF 전극을 활용하여 식각(Etching)하는 장비 입니다.


PE-RIE System: 상부 저밀도 RF 전극을 활용하여 Soft Ashing, 표면처리, Cleaning 하는 장비 입니다.

                        하부 저밀도 RF 전극을 활용하여 일반적인 식각(Etching)도 가능한 장비 입니다.

                        다른 장비(를 활용하여 표면 처리, Cleaning을 한 후 별도의 장비로 식각(Etching)을 할 때 2 가지의 장비가 필요하지만

                        PE-RIE System 한 장비로 2가지 의 기능을 할 수 있습니다.

ICP-RIE System: 상부 고밀도 RF 전극을 활용하여 Ashing, 표면처리, Cleaning(유기물 Cleaning도 가능) 하는 장비 입니다.

                         하부 저밀도 RF 전극을 활용하여 일반적인 식각(Etching)도 가능한 장비 입니다.

                          상부와 하부 RF 전긍을 한꺼번에 사용을 한다면 정교한 식각(Etching)도 가능한 장비 입니다.


다른 회사 보다 조금이라도 저렴하게 장비를 공급하고 있으며 올포시스템은 장비를 수주 받아서 제작하기 때문에 장비의 성능을 알아 보기 위해서는 실제로 장비를 납품한 곳도 연결도 가능 합니다.


장비에 관심이 있거나 구매 의사가 있을 때 언제든지 연락주세요!


참조)


RIE(식각: Etching) System을 소개합니다.


Graphene, ()소재, 반도체, 소자, 등의 연구에 


성균관대 물리학과 나노구조물리연구단 이영희 교수님, KIST 전북 분원, UNIST, DGIST, 한양대학교(플라즈마 및 공정 연구실), 인하대학교, 울산대학교, 등에 납품을 했습니다


최근에는 서울대 물리학과 이탁희 교수님, 서울대 융합과학기술대학원 김창순교수님 연구실에 RIE(식각: Etching) System을 납품 했습니다.


 ICP-RIE System을 소개합니다.


다른 회사의 연구개발용 ICP-RIE System이 있지만 저희 장비는 다른 회사 보다 가격이 동등하거나 그 이하 입니다.


2018년에 R&D 기술력을 인정받아 삼성전자생산기술연구소에서 수주를 받아서 납품을 했습니다.


납품처는 KIST, KAIST, 한양대학교, 성균관대학교, 부산대학교, 아주대학교, KEC, 등 연구원, 대학교 실험실, 일부 양산 업체에 납품을 하였습니다.


올포시스템은 다른 진공 장비 업체와 달리 과거에 원익아이피에스, 주성엔지니어링의 장비 개발에 참여했고 현재 양산용 반도체 장비를 제작하는 기업에 ICP Plasma Source Module을 공급하고 있습니다.


관련 자료를 참고 하시기 바랍니다.


문의 사항이 있으시면 언제든지 연락주세요!


팀장 강신석

010-4064-6650

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